Helios NanoLab DualBeam


Helios NanoLab DualBeam

一直以来,Helios NanoLab DualBeam  都综合采用了 FEI 的最佳电子和离子光学

统、配件和软件,能够为尖端纳米量级研究提供强大的解决方案。对于从事纳

技术前沿研究的科学家,Helios NanoLab能让他们拓展研究边界,为材料研究

新的天地。 

借助极具价值的亚纳米 SEM 成像技术、S/TEM 超薄样本制备能力以及最精确的原

型设计功能,科学家能够将Helios NanoLab当作理想的研究伴侣,为未来的科技

步开发创新的新材料和纳米量级器件。








Helios NanoLab 的电子工业应用

Helios NanoLab 是一款极其灵活的平台,既能以极高的效率制备 

TEM 样本,又能开展高性能低电压成像以分析高级逻辑和存储器

件。Helios Nanolab 具有大型和小型样本室两个配置,效率极高,

并且是面向实验室和近生产环境的低每样本成本半导体分析工作

流的关键组成部分。







Helios NanoLab 的材料科学应用

在材料科学领域,研究人员面临的挑战是持续改善目前制造的材料和设备

的质量。为了实现技术进步,在纳米量级了解结构和成分细节至关重要。

Helios NanoLab 设计用来以低至亚纳米量级的分辨率提供多尺度、多维度

洞察,让研究人员能够观测样本最微小的细节。Helios NanoLab 还可为原

子分辨率 S/TEM 成像迅速制备最高质量的样本。此外,如果研究工作包括

开发 MEMS 或 NEMS 器件,也可配备 Helios NanoLab 打造全功能原型。




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